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Intel 2030年进入0.016微米制程时代

时间：2004/10/8 14:01:00来源：本站整理作者：蓝点我要评论(0)

    根据网站Semiconductor Reporter报导，英特尔（Intel）科技策略主管暨半导体ITRS主席Paolo Gargini日前在美国旧金山Semicon West专题演讲中表示，摩尔定律（Moore''s Law）还活得好好的，未来15～20年仍未有变化，别急着帮互补性金属氧化物半导体（Complementary Metal-Oxide Semiconductor；CMOS）科技判死刑，预估CMOS制程科技还有20年日子，英特尔估计到2030年将进入0.016微米制程世代，不过，就半导体设备商的立场来看，现在应可开始为CMOS后继者所需导入全新的设备研发预作准备。



   据报导， CMOS制程具有省电、便宜、制程的可重复性等优点，自1970年代以来跃为IC主流，目前CMOS在量产方面的成熟度，不仅是仍是半导体产业的主流，而其它半导体技术仍难以望其项背。然而，当前半导体产业制程技术纷纷开始向12吋晶圆与90奈米制程发展，未来在晶体管继续缩小面临物理学之极限时，已有不少人质疑CMOS半导体技术是否亦已濒临垂危之命运边缘？不过，英特尔的Gargini则指出，忧心CMOS半导体技术已面临极限的说法，未免过于杞人忧天，在英特尔的规划当中，后CMOS半导体时代（post-CMOS semiconductor era）至少要等到2020年以后才有可能，在此同时，CMOS亦将与其它半导体技术同时并存，Gargini认为，这反而不是半导体产业的危机，而应该视之为整合多重半导体技术的契机。

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